В работе исследована кинетика гомогенного и гетерогенного зарождения кристаллов в литиевосиликатных фоточувствительных стеклах. Гомогенное зарождение реализовывалось в литиевосиликатных стеклах без фоточувствительных примесей, а также в стеклах с фоточувствительными примесями без ионизирующего облучения. Гетерогенное зарождение реализовывалось в стеклах с фоточувствительными примесями и ультрафиолетовым или рентгеновским облучением. Рентгеновское облучение не требует наличия в стекле сенсибилизирующих примесей диоксида церия. В качестве гетегоргенного зарождения рассмотрено автокаталитическое зарождение, реализующееся при смещении состава стекла в сторону увеличения содержания диоксида лития. Полученные характеристики зарождения позволяют выбрать оптимальные составы для производства фотоситаллов.